Fujifilm stále vyvíjí svůj systém CSC fotoaparátů a do budoucna připravuje i výkonný externí blesk EF-X500, který slibuje také odolnost vůči nepříznivému počasí. Dočkáme se ho brzy, už na jaře letošního roku.
Systém CSC fotoaparátů Fujifilm X byl v lednu rozšířen o dva nové fotoaparáty
a
, nechyběl ani nový
telezoom XF 100-400mm F4.5-5.6 OIS
a výrobce také oznámil, že se chystá nový externí blesk. Ten ponese jméno
EF-X500
a půjde o jednotku, která bude odolná vůči prachu a jiným projevům nepříznivého počasí. Má pokrýt úhel záběru 24 až 105mm objektivů po přepočtu, se speciálním panelem pak zvládne i 20mm ohniskovou vzdálenost. Při nastavení na 105mm ohniskovou vzdálenost Fujifilm slibuje směrné číslo 50 při citlivosti ISO 100.
Hlavu lze naklopit o 10° dolů a o 90° nahoru. Dále ji lze otočit o 135° doleva a o 180° doprava. Barva světla má činit 5600 K. Síla blesku může být nastavena automatikou (přes TTL měření) nebo manuálně v rozsahu 1/1 až 1/512. U sekvenčního blýskání lze použít 1/4 až 1/512 maximální síly a lze blýsknout 2 až 100krát. Nechybí ani podpora bezdrátového řízení ve třech skupinách a na 4 kanálech. Má být možné využít i vysokorychlostní synchronizaci s časy do 1/8000 sekundy. O napájení se bude starat čtveřice AA baterií. Rozměry blesku jsou 67,5×123,9×106 mm. Nový blesk Fujifilm EF-X500 má být oficiálně představen v květnu 2016.
Zdroj:
